紫外UV臭氧清洗機(jī)的清洗是一個(gè)完全干燥的過程。而紫外臭氧清洗機(jī)內(nèi)會(huì)配備臭氧清除裝置，廢氣臭氧在系統(tǒng)內(nèi)分解，不會(huì)造成清潔室內(nèi)的臭氧含量過高從而產(chǎn)生危害。紫外臭氧清洗機(jī)也可配置成連續(xù)加載的清洗線，并可與DI水沖洗系統(tǒng)耦合，徹底清除表面的顆粒。
紫外UV臭氧清洗機(jī)的工作原理，紫外線(UV)燈照射分為兩種波長(zhǎng)(185和254 nm)。每個(gè)波長(zhǎng)對(duì)化學(xué)反應(yīng)都有不同的作用。185nm紫外線將氧分子O2解離成三聯(lián)體原子氧O(3P)。三重原子氧O(3P)與氧分子氧O2結(jié)合生成臭氧O3。
另一方面，254納米紫外線分解臭氧O3，形成分子氧O2和單線態(tài)原子氧O(1D)。單線態(tài)原子氧(1D)具有較強(qiáng)的氧化能力，與基體表面發(fā)生反應(yīng)。在這個(gè)反應(yīng)中，表面被氧化在無機(jī)基板上，如硅片。在有機(jī)材料中，分子的鏈斷裂發(fā)生，有機(jī)殘留物污染物作為揮發(fā)性副產(chǎn)物分子如CO2、H2O和O2被輕易地去除，從而能夠有效地清除無機(jī)基材表面的有機(jī)污染物。
紫外UV臭氧清洗機(jī)應(yīng)用范圍較廣，在材料研究和器件制造等很多領(lǐng)域都有應(yīng)用?？梢杂糜诠杵退芰习b的表面清洗；用于在MOCVD和ALD工藝之前對(duì)III-V復(fù)合半導(dǎo)體晶圓片(如GaAs和InP)進(jìn)行表面清洗；用于玻璃、PDMS、PMMA、COC、COP等基材的直接清洗；適用于各類材質(zhì)表面的有機(jī)污染物清洗。
紫外UV臭氧清洗機(jī)的特點(diǎn)：
高強(qiáng)度網(wǎng)格燈
不銹鋼外殼
實(shí)惠
數(shù)字定時(shí)器，提供簡(jiǎn)單、可重復(fù)的結(jié)果
不銹鋼托盤，帶可選橡膠墊
高度可調(diào)托盤，適用于高達(dá) 1 英寸/25 毫米高的基材
自動(dòng)清潔并提高涂層附著力
介質(zhì)入口端口
排氣口，帶可選的臭氧殺流器和鼓風(fēng)機(jī)
紫外UV臭氧清洗機(jī)的常見應(yīng)用：
紫外線固化
表面圖案化
臭氧蝕刻
顯微鏡載玻片
清潔鏡片和光學(xué)元件
薄膜沉積的制備
AFM探頭清潔/銳化
改善表面潤(rùn)濕性
清潔石英和陶瓷表面
半導(dǎo)體表面氧化與制備
可選設(shè)備：
裝置均配有臭氧殺滅器和鼓風(fēng)機(jī)套件，無需外部排氣即可使用該裝置。臭氧殺手將解離排氣中的微量臭氧，而鼓風(fēng)機(jī)將增加排氣流量。
紫外光清洗的工作原理
紫外光清洗技術(shù)是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除黏附在材料表面上的有機(jī)物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達(dá)到“原子清潔度”。更詳盡的講：UV光源發(fā)射波長(zhǎng)為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時(shí),由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長(zhǎng)的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力,并在吸收185nm波長(zhǎng)的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用?？諝庵械难鯕夥肿釉谖樟?85nm波長(zhǎng)的紫外光后也會(huì)產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對(duì)254nm波長(zhǎng)的紫外光同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而徹底清除了黏附在物體表面上的碳和有機(jī)污染物。清洗時(shí)，使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產(chǎn)生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多，其表面水接觸愈小，成反比關(guān)系。一般STN-LCD制作過程中，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(2537nm)以上。而彩STN-LCD及彩色濾光片制作過程中，要求的玻璃基板累積紫外線能量600mj/cm2(2537nm)。
紫外光清洗的適用范圍
液晶顯示器件、觸摸屏、半導(dǎo)體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料
紫外光清洗的主要材料：
ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅芯片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理?？梢匀コ酃福河袡C(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余的光刻膠等
使用紫外線清洗時(shí)要注意以下幾個(gè)方面：
1. 污垢中的無極成分或處理后的灰分會(huì)殘留在物體表面，因此需要采用相應(yīng)的辦法進(jìn)一步清除，如加裝真空除塵或與超聲波干洗配套使用。
2.處理時(shí)，當(dāng)清洗對(duì)象表面與照射光源距離稍遠(yuǎn)時(shí)，產(chǎn)生的臭氧會(huì)自動(dòng)分解失去作用，一定要注意清洗表面與光源的距離，也就是注意平臺(tái)或傳送帶上工件的高度或厚度。
3.這種處理方法要求紫外線能透過清洗對(duì)象表面，對(duì)有立體結(jié)構(gòu)的清洗對(duì)象不太適合，只能清洗表面結(jié)構(gòu)的物體。
4.由于需防止臭氧擴(kuò)散對(duì)人體造成損害，需要在封閉裝置中進(jìn)行清洗。
5.由于臭氧是通過氧化反應(yīng)去除污垢的，所以容易被氧化的表面不能用這種方法處理。
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